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光阻組成物、形成光阻組成物的方法及極紫外線微影方法
專利

光阻組成物、形成光阻組成物的方法及極紫外線微影方法

11/01/2025

摘要

一種光阻組成物包含一混合物。該混合物包含一第一感光材料及一第二感光材料。該第一感光 材料為一6-Sn 氧化物簇、一12-Sn 氧化物簇或它們的一組合。該第二感光材料具有與該第一感光 材料的一組成物不同的一組成物。 A photoresist composition includes a mixture. The mixture includes a first photosensitive material and a second photosensitive material. The first photosensitive material is a 6-Sn oxide cluster, a 12-Sn oxid

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