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動態隨機存取記憶體及其製造方法
茂德科技股份有限公司
and
巫勇賢
01/05/2006
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本發明提出一種動態隨機存取記憶體,係具有碳化矽區及碳鍺化矽摻雜區。由於碳化矽區能提供較高的能帶隙可減少漏電流,可減少下電極的深度,進一步增加記憶胞對位元線的電容比。另一方面,碳化矽區,可減少接面漏電流的現象。因此,可以效延長資料保存時間。
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動態隨機存取記憶體及其製造方法
Creators - without role
茂德科技股份有限公司
巫勇賢
Identifiers
9957787777606774
Academic Unit
Tsing Hua College
Language
Traditional Chinese
Resource Type
Patent
Patent
I238495; I238495
Date application
29/10/2004
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