Abstract
一種在一不干擾反應的惰性氣體氛圍下，將反應物A均勻塗佈於具特殊形貌的模板T上，以使形成一製備奈米材料用之具有反應物A的模板TA，於反應器中不干擾反應的惰性氣體氛圍下，使模板TA之反應物A與反應物B起反應，以製備一具有生成物C的反應性模板TC；以及於不干擾反應的惰性氣體氛圍下，使用該反應性模板，利用溶劑將具有生成物C的反應性模板TC中之模板T予以移除，使形成奈米材料之製備方法，及所製得的具有與模板T相同之特殊形貌的奈米材料。
- Title
- 反應性模板之製備方法、奈米材料之製備方法及奈米材料
- Creators - without role
- 國立交通大學李紫原裘性天王隆昇盛焙蓀
- Identifiers
- 9957787801406774
- Academic Unit
- National Tsing Hua University
- Language
- Traditional Chinese
- Resource Type
- Patent
- Patent
- I254030; I254030
- Date application
- 29/12/2003