Abstract
一種近光學式材料處理裝置，包括有第一鏡面及第二鏡面。第一鏡面係為弧面，並且具有位於腔體距離上之焦點，第一鏡面開設有耦合孔，以使外部微波源輸入之高功率微波，經耦合孔而沿腔體距離輸出為高場強微波束，而第二鏡面與第一鏡面一同形成近光學作用腔，並且彼此可相對地移動，而調整兩者間之腔體距離總長，而使待處理材料行經腔體距離上之高場強微波束的聚焦區（約是高場強微波束的一個波長），以快速地進行均勻的材料熱處理。
- Title
- 近光學式材料處理裝置
- Creators - without role
- 財團法人工業技術研究院張存續朱國瑞柏賴德張宏宜姜惟元余青芳戴伶潔鄭世裕寇崇善
- Identifiers
- 9957787938606774
- Academic Unit
- Department of Physics, College of Science, National Tsing Hua University
- Language
- Traditional Chinese
- Resource Type
- Patent
- Patent
- I252063; I252063
- Date application
- 31/12/2004