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Patent
逐層去除石墨烯的方法
博文 邱
,
許瑋仁
,
鄧博元
,
博文 邱
and
陳宛楨
01/05/2016
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一種逐層去除石墨烯的方法,所述方法包括:設置一單層或多層石墨烯於一熱源上、放置石墨烯以及熱源於一含有臭氧的密閉腔體內,以及利用雷射去除目標區域的石墨烯。此種去除石墨烯的方法可以在低溫的條件下,由雷射光精確控制逐層去除石墨烯。另外,還可選擇性的控制或調整所述熱源、雷射以及具有強氧化力的臭氧以去除石墨烯。
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Title
逐層去除石墨烯的方法
Creators - without role
博文 邱 - 國立清華大學電機資訊學院電機工程學系
許瑋仁
鄧博元
博文 邱 - 國立清華大學電機資訊學院電機工程學系
陳宛楨
Identifiers
9957787713506774
Academic Unit
Institute of Electronics Engineering, College of Electrical Engineering and Computer Science, National Tsing Hua University
Language
Traditional Chinese
Resource Type
Patent
Patent
I531532
Date application
08/08/2014
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