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Patent
量化材料殘餘應力之裝置及其方法
偉中 王
,
曾郁程
,
黃吉宏
and
偉中 王
01/10/2014
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一種量化材料殘餘應力之裝置及方法,係用以量化一具有光學雙折射性質或暫態光學雙折射性質之待測物之殘餘應力,該裝置包括:一光源;一偏光鏡;一標準試片;一檢光鏡;一施載單元;一光譜儀及一檢測模組;該方法包括步驟:施載該標準試片;記錄從該檢光鏡穿透之光的光強,以得到該標準試片之穿透率;重覆該施載步驟以及該記錄步驟以得到該標準試片之應力與穿透率變化關係,而得到該標準試片之應力量化公式;及利用該標準試片之應力量化公式以及該待測物之穿透率,得到該待測物之應力分佈。
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Title
量化材料殘餘應力之裝置及其方法
Creators - without role
偉中 王 - 國立清華大學工學院動力機械工程學系
曾郁程
黃吉宏
偉中 王 - 國立清華大學工學院動力機械工程學系
Identifiers
9957787587906774
Academic Unit
Center for India Studies, Office of Academic Affairs, National Tsing Hua University
Language
Traditional Chinese
Resource Type
Patent
Patent
I454674
Date application
12/01/2011
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