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Patent
量子點元件製備方法
財團法人工業技術研究院
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陳學仕
,
羅大倫
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張國揚
and
陳建明
01/03/2006
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本發明係有關於一種量子點元件製備方法,包括提供一具有至少一霧化噴嘴與一基板支撐座之沈積反應室,其中霧化噴嘴係與一氣體進料口與一樣品輸入口相連;配製一溶液,係使複數個量子點官能化後,再分散於一溶劑中,且安置一基板於該沈積反應室中之基板支撐座上;以及傳送該溶液與一氣體進入霧化噴嘴中,其係分別經由氣體進料口與樣品輸入口,以產生複數個包含至少一量子點粒子之液滴,於該反應室內沈積至基板上。本發明所形成之量子點分佈均勻且粒徑小,可大幅提高材料性質。
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Title
量子點元件製備方法
Creators - without role
財團法人工業技術研究院
陳學仕
羅大倫
張國揚
陳建明
Identifiers
9957787511206774
Academic Unit
Department of Materials Science and Engineering, College of Engineering, National Tsing Hua University
Language
Traditional Chinese
Resource Type
Patent
Patent
I281691; I281691
Date application
23/08/2004
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