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量子點元件製備方法
Patent

量子點元件製備方法

財團法人工業技術研究院, 陳學仕, 羅大倫, 張國揚 and 陳建明
01/03/2006

Abstract

本發明係有關於一種量子點元件製備方法,包括提供一具有至少一霧化噴嘴與一基板支撐座之沈積反應室,其中霧化噴嘴係與一氣體進料口與一樣品輸入口相連;配製一溶液,係使複數個量子點官能化後,再分散於一溶劑中,且安置一基板於該沈積反應室中之基板支撐座上;以及傳送該溶液與一氣體進入霧化噴嘴中,其係分別經由氣體進料口與樣品輸入口,以產生複數個包含至少一量子點粒子之液滴,於該反應室內沈積至基板上。本發明所形成之量子點分佈均勻且粒徑小,可大幅提高材料性質。

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