Abstract
一種電感式電漿蝕刻設備及其回授控制方法,係將一電壓/電流測量裝置連接於蝕刻設備中之一晶圓座,以量測此晶圓座之射頻電流、偏壓及二者間之相角,並利用所量得之射頻電流、偏壓及二者間之相角計算出一離子電流及一射頻偏壓,最後,利用所得之離子電流與射頻偏壓回授控制射頻功率產生器,以使反應腔中達到預設之電漿狀態。
- Title
- 電感式電漿蝕刻設備及其回授控制方法
- Creators - without role
- 克強 柳 - 國立清華大學原子科學院工程與系統科學系克強 柳 - 國立清華大學原子科學院工程與系統科學系蕭凱木張正宏林強
- Identifiers
- 9957787876806774
- Academic Unit
- Department of Engineering and System Science, College of Nuclear Science, National Tsing Hua University
- Language
- Traditional Chinese
- Resource Type
- Patent
- Patent
- I298909
- Date application
- 12/04/2005