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Patent
鹵化物材料及包含該鹵化物材料之光學單元和光電元件
國立清華大學
,
皓武 林
,
Ho-Hsiu Chou
,
之勵 張
,
建宇 陳
and
琳 楊
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16/09/2022
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本發明主要揭示一種化學式為ArMAX的鹵化物材料,其可與鹵化甲脒及金屬鹵化物一同製成一光學薄膜,從而應用在例如鈣鈦礦發光二極體或鈣鈦礦雷射的一光電元件之中。實驗數據顯示,包含本發明之鹵化物材料的光學薄膜,其具有光致發光峰值波長可調之特徵。隨著鉛、鹵素以及甲脒之比例的提升,該光學薄膜的光致發光峰值波長係自482nm移動至534nm。同時,實驗數據還證實,包含本發明之鹵化物材料的光學薄膜係可作為一藍色發光層、一紅色發光層或一綠色發光層,顯見在光電元件具有極大的應用潛力。
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Title
鹵化物材料及包含該鹵化物材料之光學單元和光電元件
Translated title
Halide Material And Optical Unit And Optoelectronic Device Having The Same
Creators
國立清華大學 (Patent applicant)
皓武 林 (Inventor)
Ho-Hsiu Chou - National Tsing Hua University, College of Semiconductor Research
之勵 張 (Inventor)
建宇 陳 (Inventor)
琳 楊 (Inventor)
Application code
TWN
Resource Type
Patent
Patent
I770866
Application number
110108452
Date application
10/03/2021
Date published
16/09/2022
Date issued
11/07/2022
Language
Traditional Chinese
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